Intel : le 10nm dans 10 ans

Lundi 7 juillet 2008 à 17:40

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Pat Gelsinger, vice-président d’Intel, a récemment donné sa vision du futur des technologies de gravure. Ainsi, Intel devrait selon lui être parmi les rares sociétés à posséder ses propres usines de fabrication de puces capables de travailler avec des wafers de 450 mm de diamètre. Cette étape devrait avoir lieu entre 2010 et 2015.

Du côté des technologies de gravure, si Intel utilise à l’heure actuelle une gravure en 45nm pour fabriquer ses puces les plus évoluées, le fondeur devrait passer au 32nm dès l’année prochaine. Suivront des technologies de gravure en 22nm, puis 14nm. Pat Gelsinger indique enfin que le passage sous les 10nm devrait avoir lieu au cours de la prochaine décennie, si tout se passe comme prévu…

source : http://www.presence-pc.com/actualite...gravure-30303/