Intel fait appel à Nikon pour la gravure en 32nm

Mardi 8 juillet 2008 à 18:30

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Masque de lithographie laser

Si l’on en croit certaines sources, Intel aurait décidé de se tourner vers Nikon – qui ne fabrique pas que des appareils photo - pour se fournir en appareils de lithographie par immersion, et ce au dépend d’ASML, le constructeur néerlandais de systèmes de lithographie dédiés à l’industrie des microprocesseurs et jusqu’à présent fournisseur d’Intel.

La lithographie par immersion

Intel devrait donc utiliser des scanners basés sur la lithographie par immersion conçus par Nikon (des NSR-610C en 193nm) pour produire ses puces gravées en 32nm. Contrairement à la photolithographie sèche qu’utilise actuellement le fondeur, en particulier pour produire ses processeurs en 45nm, la lithographie par immersion consiste à placer le wafer dans un bain liquide qui a un indice de réfraction supérieur à 1. Le liquide agit alors comme une lentille, focalisant la lumière et accroissant par la même occasion la finesse de gravure.

Le grand perdant de ce choix est bien entendu ASML puisque le fondeur a décidé de se fournir exclusivement chez Nikon. Une stratégie assez risquée si l’on en croit certains analystes…

source : http://www.presence-pc.com/actualite...e-Nikon-30324/